多機能走査型Ｘ線光電子分光分析装置 PHI VersaProbe4
固体表面 10 nm 程度の深さの化学結合状態や組成に関する情報を得る X 線光電子分光分析装置です。X 線照射による光電子分光の他、紫外光電子分光分析（UPS）、低エネルギー逆光電子分光分析（LEIPS）、反射電子エネルギー損失分光分析（REELS）を行えます。また、通常の Ar イオン銃に加えて Ar ガスクラスターイオン銃を備えているため、種々の材料に対してエッチングによる深さ方向分析が可能です。専用のトランスファーベッセル、4 端子付き試料加熱冷却機構も備えており、オペランド測定などにも対応できます。
工学研究科材料工学専攻
(1) 京都大学（以下「本学」という。）の教職員又は学生のうち、専攻又は工学部物理工学科材料科学コースに所属するもの
(2) 本学の教職員又は学生のうち、専攻又は工学部物理工学科材料科学コース以外に所属するもの
(3) 国、地方公共団体、国立大学法人若しくは大学共同利用機関法人、独立行政法人又は教育・研究を事業目的とする法人若しくは団体に所属する者
(4) 企業等において研究開発に従事する者
(5) その他管理責任者が適当と認める者
事前講習を受講のうえ、利用者自身で測定してください。
所属機関において、Ｘ線業務従事者として登録済であることを確認してください。
利用目的、試料情報（形状、サイズ、含有元素、導電性の有無）を下記連絡先にお知らせください。
粉末試料は利用不可です。真空中（10-7Pa）で安定な固体試料が測定対象です。
厚さ 2mm 以下で 5mm×5mm から 12mm×16mm までの試料が主な測定対象ですが、上記範囲外のサイズでも測定可能な場合がありますのでご相談ください。
材料工学専攻 ナノ構造学研究室 准教授 野瀬 嘉太郎
075-753-5472
nose.yoshitaro.5e*kyoto-u.ac.jp
材料工学専攻 教育研究支援室 技術職員 佐々木 宣治
075-753-5426
sasaki.nobuharu.7a*kyoto-u.ac.jp
※メールは両名にお送りください。
「*」を「@」に変更のうえご送信ください。